Hafnium tetraklorida | bubuk HfCl4 | CAS 13499-05-3 | rega pabrik

Katrangan singkat:

Hafnium tetraklorida nduweni aplikasi penting minangka prekursor hafnium oksida, katalis kanggo sintesis organik, aplikasi nuklir, lan deposisi film tipis, nyoroti fleksibilitas lan wigati ing macem-macem bidang teknologi.

More details feel free to contact: erica@epomaterial.com

Kirimi email kanggo kita

Detail Produk

Tag produk

Deskripsi Produk

Pambuka Brief

Jeneng produk: Hafnium tetraklorida
Nomer CAS: 13499-05-3
Formula Senyawa: HfCl4
Bobot molekul: 320,3
Penampilan: bubuk putih

Spesifikasi

Item	Spesifikasi
Penampilan	Bubuk Putih
HfCl4+ZrCl4	≥99,9%
Zr	≤200ppm
Fe	≤40ppm
Ti	≤20ppm
Si	≤40ppm
Mg	≤20ppm
Cr	≤20ppm
Ni	≤25ppm
U	≤5ppm
Al	≤60ppm

Aplikasi

Prekursor Hafnium Dioksida: Hafnium tetraklorida utamané dipigunakaké minangka prekursor kanggo gawé hafnium dioksida (HfO2), sawijining bahan kanthi sipat dielektrik sing apik banget. HfO2 akeh digunakake ing aplikasi dielektrik dhuwur-k kanggo transistor lan kapasitor ing industri semikonduktor. HfCl4 penting kanggo nggawe piranti elektronik canggih amarga kemampuan kanggo mbentuk film tipis hafnium dioksida.
Katalis sintesis organik: Hafnium tetraklorida bisa digunakake minangka katalis kanggo macem-macem reaksi sintesis organik, utamane polimerisasi olefin. Sifat asam Lewis mbantu mbentuk intermediet aktif, saéngga ningkatake efisiensi reaksi kimia. Aplikasi iki larang regane ing produksi polimer lan senyawa organik liyane ing industri kimia.
Aplikasi Nuklir: Amarga bagean salib panyerepan neutron sing dhuwur, hafnium tetraklorida akeh digunakake ing aplikasi nuklir, utamane ing rod kontrol reaktor nuklir. Hafnium bisa nyerep neutron kanthi efektif, saéngga minangka bahan sing cocog kanggo ngatur proses fisi, sing mbantu ningkatake safety lan efisiensi pembangkit listrik tenaga nuklir.
Deposisi Film Tipis: Hafnium tetraklorida digunakake ing proses deposisi uap kimia (CVD) kanggo mbentuk film tipis saka bahan adhedhasar hafnium. Film kasebut penting ing macem-macem aplikasi, kalebu mikroelektronik, optik, lan lapisan pelindung. Kemampuan kanggo nyimpen seragam, film kualitas dhuwur ndadekake HfCl4 terkenal ing proses manufaktur majeng.